分光学的に整形するＸ線光学デバイスとスペクトルフィルタ開口デバイスとを含むＸ線照射装置、蛍光Ｘ線イメージング装置、及び特に蛍光Ｘ線イメージングにおけるその応用

Ｘ線照射装置（１００）は、多色スペクトルを有するＸ線（２）を生成するためのＸ線源デバイス（１１０）と、長手方向であるビーム軸（３）を有するＸ線光学デバイス（１２０）とを含み、Ｘ線光学デバイス（１２０）は、反射器幾何学的条件と、反射器モザイシティと、反射器厚さとを有する、多結晶である反射器デバイス（１２１）を含み、反射器デバイス（１２１）は、反射器デバイス（１２１）の取り込み角内でＸ線（２）の一部を受け取るよう、且つビーム軸（３）に沿ってその焦点位置に向けられるＸ線ビーム（４）をブラッグ反射によって生成するように配置され、Ｘ線（２）の多色スペクトルと、反射器幾何学的条件と、反射器モザイシティと、反射器厚さとによって決定されるスペクトル分布を有し、Ｘ線照射装置（１００）は、Ｘ線ビーム（４）のスペクトル分布の第１のスペクトル部分（４Ａ）を透過させ、このスペクトル分布の第２のスペクトル部分（４Ｂ）及び第３のスペクトル部分（４Ｃ）を遮断するフィルタギャップ（１２３）を形成するために、反射器デバイス（１２１）から下流に配置されているスペクトルフィルタ開口デバイス（１２２）をさらに含み、第１のスペクトル部分（４Ａ）は、第２のスペクトル部分（４Ｂ）よりも高いエネルギーを有し、第３のスペクトル部分（４Ｃ）よりも低いエネルギーを有し、反射器デバイス（１２１）は、少なくとも１００マイクロステラジアンの取り込み立体角を有し、反射器デバイス（１２１）の反射器幾何学的条件、反射器モザイシティ、反射器厚さ、及び取り込み角は、第１のスペクトル部分（４Ａ）の放射線フラックスが、少なくとも１％のピーク反射率を有する反射器デバイス（１２１）が受け取るＸ線（２）の同じスペクトル部分の入射フラックスの少なくとも１％であることと、第１のスペクトル部分（４Ａ）が最大１５％のスペクトル帯域幅を有することと、第２及び第３のスペクトル部分（４Ｂ、４Ｃ）が、第１のスペクトル部分（４Ａ）のフラックスと比較して少なくとも３桁の大きさだけ減少したフラックスを有することと、Ｘ線ビーム（４）が、長手方向ビーム軸に対して左右横断方向寸法において１．５ｍｍ未満の焦点サイズを有することとが揃うように選択される。さらに、蛍光Ｘ線イメージング装置（２００）及びＸ線照射装置（１００）の使用方法が説明される。