X-ray Optical Delay Line at EuXFEL and Investigation of B4C Damage Threshold

Link:
Autor/in:
Beteiligte Personen:
  • Hillert, Wolfgang
  • Vannoni, Maurizio
  • Meyer, Michael
Verlag/Körperschaft:
Staats- und Universitätsbibliothek Hamburg Carl von Ossietzky
Erscheinungsjahr:
2024
Medientyp:
Text
Schlagworte:
  • X-ray Optics
  • Optical Delay Line
  • Damage Threshold
  • Silicon mirror
  • B4C damage threshold
  • B4C coating
  • European X-ray Free Electron Laser (EuXFEL)
  • Electron collision length
  • Energy deposition depth
  • Single-shot damage
  • Multi-pulse damage
  • X-ray mirror
  • 530: Physik
  • ddc:530:
Lizenzen:
  • http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
  • info:eu-repo/semantics/openAccess
  • https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
Quellsystem:
E-Dissertationen der UHH
Interne Metadaten
Quelldatensatz
oai:ediss.sub.uni-hamburg.de:ediss/11536