DEVICE AND METHOD FOR COATING CHANNELS OF A SAMPLE BY MEANS OF VAPOR DEPOSITION , VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR BESCHICHTUNG VON KANÄLEN EINER PROBE MITTELS ABSCHEIDUNG AUS DER GASPHASE

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung sowie ein Verfahren zur Beschichtung von Kanälen mittels Abscheidung aus der Gasphase, wobei gasförmige Präkursoren über mindestens eine mit ersten Kanalenden der Kanäle verbundene Zuleitung den Kanälen zugeführt und zusammen mit Reaktionsprodukten über eine mit den ersten Kanalenden gegenüberliegenden zweiten Kanalenden verbundene erste Ableitung von den Kanälen abgeleitet werden, dadurch gekennzeichnet, dass über die mindestens eine Zuleitung zumindest zwei unterschiedliche Präkursoren abwechselnd dem ersten Kanalende zugeleitet werden, dass während des Zuleitens der Präkursoren durch Erzeugung eines einstellbaren Druckgradienten ein Präkursorstrom entlang einer ersten Strömungsrichtung von der Zuleitung durch die Kanäle hindurch zu der ersten Ableitung geleitet wird, sowie dass über eine mit dem ersten Kanalende verbundene zweite Ableitung nicht reagierte Präkursoren und Reaktionsprodukte abgeleitet werden.

The invention relates to a device and a method for coating channels by means of vapor deposition, wherein gaseous precursors are supplied to the channels via at least one supply line connected to first channel ends of the channels and are discharged from the channels together with reaction products via a first discharge line connected to second channel ends lying opposite the first channel ends. The invention is characterized in that at least two different precursors are supplied to the first channel end in an alternating manner via the at least one supply line; while supplying the precursors, a precursor flow is conducted along a first flow direction from the supply line to the first discharge line through the channels by generating an adjustable pressure gradient; and non-reacted precursors and reaction products are discharged via a second discharge line connected to the first channel end.