Chemische Gasphasenabscheidung : ein Verfahren zur Erzeugung heterogenkatalytisch aktiver Oberflächen

Link:
Autor/in:
Beteiligte Person:
  • Heck, Jürgen (Prof. Dr.)
Verlag/Körperschaft:
Staats- und Universitätsbibliothek Hamburg Carl von Ossietzky
Erscheinungsjahr:
2001
Medientyp:
Text
Schlagworte:
  • 660 Technische Chemie
  • 35.17 Katalyse
  • Kapillare
  • Glas
  • Mikrosystemtechnik
  • CVD-Verfahren
  • Titandioxid
  • Schichtwachstum
  • Dotierung
  • Photokatalysator
  • Redoxreaktion
  • ddc:660
  • Kapillare
  • Glas
  • Mikrosystemtechnik
  • CVD-Verfahren
  • Titandioxid
  • Schichtwachstum
  • Dotierung
  • Photokatalysator
  • Redoxreaktion
Lizenzen:
  • http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
  • info:eu-repo/semantics/openAccess
  • No license
Quellsystem:
E-Dissertationen der UHH
Interne Metadaten
Quelldatensatz
oai:ediss.sub.uni-hamburg.de:ediss/3063